一、 PVD(鍍鈦)技術的發展與應用

　　PVD(物理(li)氣相沉積)技術在(zai)(zai)二十(shi)世(shi)紀七十(shi)年代末，開(kai)始(shi)應用(yong)在(zai)(zai)提高機械力學性(xing)(xing)(xing)能(neng)的(de)硬質膜(mo)方面(mian)，制備的(de)薄膜(mo)具(ju)(ju)有高硬度、低(di)摩擦系數、很好的(de)耐(nai)磨(mo)性(xing)(xing)(xing)和化學穩定性(xing)(xing)(xing)等優點(dian)。最(zui)初在(zai)(zai)高速鋼刀(dao)具(ju)(ju)領域的(de)成功(gong)應用(yong)引(yin)起了(le)世(shi)界各國工具(ju)(ju)制造業的(de)高度重視，人們在(zai)(zai)開(kai)發高性(xing)(xing)(xing)能(neng)、高可靠性(xing)(xing)(xing)涂層(ceng)設(she)備的(de)同時(shi)，也在(zai)(zai)硬質合(he)(he)金、**類刀(dao)具(ju)(ju)中進行(xing)了(le)更加深入的(de)涂層(ceng)應用(yong)研究。PVD工藝對(dui)環境無不利影響，符(fu)合(he)(he)現代綠色制造的(de)發展方向。

　　鍍鈦工(gong)藝(yi)處(chu)理溫(wen)度(du)可(ke)(ke)控(kong)制(zhi)在150～500℃以(yi)下(xia)，因此鍍鈦工(gong)藝(yi)可(ke)(ke)用于多(duo)種(zhong)材質基(ji)(ji)體的涂(tu)(tu)層，不僅具(ju)有多(duo)姿多(duo)彩的裝飾效果，更重要的是采用PVD技(ji)術可(ke)(ke)使涂(tu)(tu)層具(ju)有優異的理化特(te)性，大幅度(du)強化基(ji)(ji)體表面諸如硬度(du)、摩擦系數等物理特(te)性指標。

　　二、離子真空鍍膜技術的特點和用途

　　真(zhen)空離(li)子鍍鈦應用的就是PVD技術。

　　金屬在特定環境(jing)下(壓力，溫度(du)，電磁場等)與(yu)各種氣(qi)(qi)體(氬(ya)氣(qi)(qi)，氮氣(qi)(qi)，氧氣(qi)(qi)及(ji)乙(yi)炔氣(qi)(qi)等)產生綜合(he)作用(yong)形(xing)成等離子體，經過加(jia)(jia)速后，等離子體涌向被鍍工件表面，形(xing)成牢固(gu)的(de)(de)膜層。該(gai)鍍鈦(tai)膜層細密均(jun)勻，結合(he)力強，硬度(du)高(gao)，防(fang)腐耐磨，具有良好的(de)(de)導電性(xing)和自潤滑(hua)性(xing)能，同(tong)時色(se)澤豐富多樣，因此真空鍍鈦(tai)不僅是提(ti)高(gao)材料使(shi)用(yong)性(xing)能的(de)(de)有力手段，在裝(zhuang)飾(shi)上(shang)同(tong)樣是提(ti)升檔次(ci)，提(ti)高(gao)附加(jia)(jia)值的(de)(de)最佳(jia)選擇。